三星电子否认重新设计1bDRAM力求提升性能和良率
IT之家 1 月 22 日消息,消息源 DigiTimes 今天(1 月 22 日)发布博文,报道称三星电子否认了关于重新设计其第五代 10nm 级 DRAM(1b DRAM)的报道。
IT之家昨日援引 ETNews 报道,三星电子内部为应对其 12nm 级 DRAM 内存产品面临的良率和性能双重困局,已在 2024 年底决定在改进现有 1b nm 工艺的同时从头设计新版 1b nm DRAM。
市场观察人士认为,三星修改 1b DRAM 设计的决定源于竞争压力。SK 海力士和美光已在 HBM 中采用 1b DRAM,而三星仍在使用之前的 1a DRAM。
此外,据报道,三星启动了名为“D1b-p”的开发项目,旨在提高其 DRAM 业务的竞争力,“p”代表“prime”,象征着卓越的品质,该项目重点关注提高电源效率和散热性能。
尽管三星是全球 DRAM 领域的领导者,但目前正面临来自 SK 海力士和美光的挑战。这两家公司都已成功商业化 1b DRAM,SK 海力士甚至在 2024 年 8 月率先完成了 1c DRAM 的开发。
有消息称,三星 Galaxy S25 系列智能手机即将发布,美光将成为其主要的移动 DRAM (LPDDR5) 供应商。这被认为是由于三星尚未完全解决 1b LPDDR5X 的良率和散热问题。
三星通过该媒体予以否认,称相关报道不准确。此次事件引发了业界广泛关注,凸显了存储芯片市场竞争的激烈程度。返回搜狐,查看更多
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